Plasma Chemistry And Plasma Processing
Journal title: Plasma Chemistry And Plasma Processing
ISSN: 0272-4324
EISSN: 1572-8986
Publisher name: Springer
Publisher address: One New York Plaza, Suite 4600 , New York, United States, Ny, 10004
Languages: English
Subject: Engineering, Chemical | Physics, Applied | Physics, Fluids & Plasmas
上一篇：Plant Species Biology
下一篇：Plasmid
了解更多：
公司簡介 /
公司服務 /
學術知識 /
研究方向 /
EI期刊 /
SSCI期刊 /
AHCI期刊 /
SCI期刊 /
DOAJ期刊 /
ESCI期刊 /
被踢期刊 /
常見問題 /
聯系我們